直20機頭成家族臉!中國新直升機總裝交付,機身夠寬整合先進設計

中国半导体产业整体发展水平落后于国际,以光刻机为例,无论是技术深度,还是设备精度,国产光刻机都被海外竞品甩在了身后。

但很少有人知道,国产光刻机与顶尖光刻机   之间的差距到底有多大。而日前,中芯国际CEO就给出了答案。

在中国工程院信息与电子工程前沿论坛上,中芯国际CEO赵海军毫不避讳地讲到,中国光刻机落后荷兰20年时间,并且一针见血的指出国产光刻机现状。

据悉,国产光刻机发展路上有两大拦路虎,一是政策壁垒,二是产业壁垒。

政策壁垒是指以瓦纳森协议为代表的合作条约,受这些合作协议影响,不少国家与中国进行交易都需要经过美国同意

三年前,中芯国际成功购买ASML公司EUV光刻机,但ASML公司EUV光刻机迟迟无法获得出境许可,本质上来说,就是受到了瓦纳森协议的影响。这类合作协议,让中国加入全球生产体系变得尤为困难。

至于产业壁垒,则更好理解,简单来讲,就是单纯的技术储备不足。

众所周知,我国半导体产业起步较晚,并且在半导体产业发展初期,国内厂商深受造不如买,买不如租的思潮影响,只看重短期利益,不顾长期收益。

这导致我国在半导体产业起步发展阶段原地踏步了很长一段时间,也是我国半导体产业落后于国际的根本原因。

值得一提的是,近几年,借助国家扶持以及资本注入的帮助。我国半导体产业一直维持着相当快的发展速度。

像是在刻蚀机领域,中微公司就处在了技术领先的位置上,即便是最难以突破的光刻机,国内也有部分企业交出了满意的答卷。

目前,国内深紫外线光刻机制造商上海微电子正在全力追赶荷兰ASML。根据方正证券早前发布的研究报告来看,上海微电子应该在去年年底就成功突破了28nm芯片制程光刻机技术壁垒。尽管依照目前情况来看,28nm光刻机量产仍需要等待相当长一段时间。但必须要承认,这对中国芯片产业发展有非常重大的意义。

在5G普及、智能汽车、智能终端产品快速发展、普及的大背景下,我国芯片市场规模将快速扩大。光刻机市场需求量也会急速增加,最对于国产光刻机制造商而言,也会一次实现逆袭的机会。