大陸即將引進EUV光刻機,國外巨頭表態:正為大陸爭取,進展順利

要想生产制造芯片,除了要有先进的制造技术外,还需要有先进的设备,尤其是光刻机,其是生产制造芯片的必要设备。

就目前而言,光刻机技术最先进的厂商是ASML,其研发制造的DUV光刻机和EUV光刻机几乎占领了中高端市场。

尤其是EUV光刻机,目前只有ASML能够研发制造,而该光刻机又是生产制造7nm以下芯片的必要设备。

数据显示,EUV光刻机目前总出货量才100多台,由于产能问题,ASML还积压了几十亿欧元的EUV光刻订单。

再加上,EUV光刻机的技术过于先进,ASML无法自由出货EUV光刻机,尽管ASML一直都在争取,但依旧没有实现。

日前,ASML方面再次重申,光刻机出货量翻倍,但售价并没有上涨,另外,DUV光刻机正常出货,而EUV光刻机在没有许可的情况下是不能自由出货的。

但没有想到的是,美在芯片方面多次修改规则后,其又对ASML的EUV光刻机作出了新限制。

最新的消息称,EUV光刻机不仅不能自由出货,也不允许出货安装到外企中国分厂。

然而,这一消息的出现,让全球主要芯片企业大外意外,因为三星、SK以及台积电等芯片企业都在中国有很多分厂。

全球缺芯后,三星、台积电以及SK不仅积极扩大产能,还筹备在中国建设更多新工厂,再加上工艺升级,自然需要大量的EUV光刻机。

如今,ASML的EUV光刻机无法出货安装到外企中国厂商,这显然不利于三星、SK等芯片企业在中国分厂扩产和提高工艺。

在这样的情况,芯片巨头SK正式表态了,正在争取为中国工厂引进EUV光刻机。

另外,SK CEO李锡熙表示,正与美方合作,进展良好。EUV光刻技术已经在韩国本土的DRAM产线上应用,中国工厂还有充足的时间供斡旋沟通。

这意味着EUV光刻机有望达到中国工厂,一旦SK成功引进EUV光刻机,这将促使更多先进制程芯片在中国工厂生产制造。

据了解,SK之所以努力争取让EUV光刻机出货安装到中国分厂,主要有三点原因。

首先,SK是全球数一数二的储存芯片制造商,其生产制造了大量的储存芯片,像DRAM,而SK大量的分厂建在中国,产能几乎占SK全部产能的一半。

要知道,仅无锡工厂就生产制造了大约15%的芯片,这意味着SK不将EUV光刻机引进到中国分厂,其就无法实现提升产能等。

其次,储存芯片工艺大升级。

EUV光刻机最初主要是用于生产制造手机CPU等芯片,但随着需求的增加,越来越多的储存芯片厂商也开始用EUV光刻机进行生产。

数据显示,三星、美光以及SK等芯片企业都开始用EUV工艺生产制造第四代储存芯片,而SK采用的10nm的EUV光刻机。

相比手机CPU等芯片而言,储存芯片的生产线需要更多EUV光刻机,原因是储存芯片的EUV应用层从1提升到5,平均每条生产线需要2台EUV光刻机。

这意味着SK倘若无法将EUV光刻机引进中国分厂,就无法生产制造更多第四代储存芯片。

最后,为了节约成本。

SK等芯片巨头有大量的工厂在中国,倘若无法将EUV光刻机引进中国分厂,就意味着其需要在其它地方重新规划建设新工厂。

要知道,新建工厂比工厂升级投入的成本大很多,新建工厂动辄都是十几亿美元的投资,甚至上百亿,关键是时间周期长。